1. 異なる光源
顕微鏡で使用される照明源は電子銃から放出される電子流であり、光学顕微鏡の照明源は可視光 (太陽光または光) です。 サブフローの波長は光波の波長よりもはるかに短いため、電子顕微鏡の倍率と解像度は、光ミラーの倍率と解像度よりも大幅に高くなります。 .
2. レンズの違い
電子顕微鏡で拡大する対物レンズは電磁レンズ（中心に磁場を発生できるリング状の電磁コイル）で、光学顕微鏡の対物レンズはガラス製の光学レンズです。 電子顕微鏡には 3 つのグループの電磁レンズがあり、光学顕微鏡の集光対物レンズと接眼レンズの機能に相当します。
3. 異なるイメージング原理
電子顕微鏡では、検査対象の試料に作用する電子線を電磁レンズで拡大し、蛍光板に当たって撮像したり、感光膜に作用させて撮像します。 電子密度の違いのメカニズムは、電子ビームがテスト対象のサンプルに作用すると、入射電子が物質の原子と衝突して散乱が発生し、サンプルの異なる部分が電子の異なる散乱度を持つことです。そのため、サンプルの電子像は陰影で表示されます。 光学顕微鏡内のサンプルの物体像は、サンプルのさまざまな構造によって吸収される光の量の違いによって引き起こされる明るさの違いで表示されます。
4. 解像度
光の干渉と回折のため、光学顕微鏡の解像度は 02-05um にしか制限されません。 電子顕微鏡は電子ビームを光源として使用するため、故障率は 1 ～ 3 nm に達することがあります。 したがって、光学顕微鏡による組織観察はミクロンレベルの分析に、電子顕微鏡による組織観察はナノレベルの分析に属します。
5.被写界深度
一般に、光学顕微鏡の被写界深度は 2-3um の間であり、サンプルの表面の滑らかさが非常に要求されるため、サンプルの準備プロセスは比較的複雑です。 SEM の精神は数メートルにも及ぶことがあるため、サンプル表面形状の滑らかさに対する要件はなく、サンプル前処理は比較的簡単で、一部のサンプル形状ではサンプル前処理が必要ありません。 実体顕微鏡は被写界深度が比較的深いですが、解像度は非常に低くなります。
6. 異なる試料調製法が使用される
サブ顕微鏡観察に使用される組織および細胞標本の調製手順は複雑であり、技術的な難易度とコストが高くなります。 サンプリング、固定、脱水、包埋の各工程で特殊な試薬と操作が必要です。 最後に、埋め込まれた組織ブロックをウルトラミクロトームに入れて、厚さ 50 ~ 100 nm の超薄標本に切断する必要があります。 光学顕微鏡で観察される標本は、通常、通常の組織切片標本、細胞塗抹標本、組織プレス標本、細胞滴下標本などのスライド ガラス上に置かれます。
7.倍率
光学顕微鏡の有効倍率は 1000X です。 優れた電子顕微鏡の有効倍率は 1000,000X に達することがあります。
