電子顕微鏡と金属顕微鏡の違い
走査型電子顕微鏡の原理
走査型電子顕微鏡 (SEM) は複雑なシステムです。 電子光学技術、真空技術、微細な機械構造、最新のコンピューター制御技術を結集。 走査型電子顕微鏡は、加速された高圧下で電子銃から放出された電子を、多段の電磁レンズを通して小さな電子ビームに結合するプロセスです。 試料表面を走査してさまざまな情報を励起し、その情報を受信・増幅・画像表示することで試料表面を分析します。 入射電子とサンプル間の相互作用により、図 1 に示すような情報が生成されます。この情報の 2 次元強度分布は、サンプル表面の特性 (表面形態、組成、結晶方位、電磁特性、等。）。 各種検出器で収集した情報を順次比例的にビデオ信号に変換し、同期走査された受像管に伝送し、輝度を変調することで試料の表面状態を反映した走査画像を取得する処理です。 検出器が受信した信号がデジタル化され、デジタル信号に変換されると、コンピューターでさらに処理して保存できます。 走査型電子顕微鏡は主に、高低差と粗さが大きい厚いブロック試料を観察するために使用され、設計における被写界深度の効果を強調します。 一般に、破壊や人工的に処理されていない自然の表面を分析するために使用されます。
電子顕微鏡と金属顕微鏡
1、異なる光源: 金属顕微鏡は光源として可視光を使用しますが、走査型電子顕微鏡はイメージング用の光源として電子ビームを使用します。
2、原理は異なります。金属顕微鏡は画像化に幾何学的光学画像化原理を使用しますが、走査型電子顕微鏡は高エネルギー電子ビームを使用してサンプルの表面に衝撃を与え、表面上のさまざまな物理信号を刺激します。 次に、さまざまな信号検出器を使用して物理信号を受信し、画像情報に変換します。
3、異なる解像度：光の干渉と回折により、金属顕微鏡の解像度は0.2-0.5umにのみ制限されます。 光源として電子ビームを使用するため、走査型電子顕微鏡では 1-3 nm の解像度を達成できます。 したがって、金属顕微鏡による微細構造観察はミクロスケールの解析に属し、走査型電子顕微鏡による微細構造観察はナノスケールの解析に属します。
4、異なる被写界深度：一般に、金属顕微鏡の被写界深度は2-3μmの間であるため、サンプルの表面平滑性に対して非常に高い要件があり、そのためサンプル準備プロセスは比較的複雑です。 一方、走査型電子顕微鏡は、被写界深度が深く、視野が広く、三次元の結像効果が得られます。 試料のさまざまな凹凸表面の微細構造を直接観察できます。
